三星将采用台积电3纳米工艺生产英伟达HBM基底芯片 据韩国媒体报道,三星电子已决定在英伟达下一代定制高带宽内存NVHBM的生产中,将堆叠底部的基底芯片交由台积电以3纳米工艺代工,这是三星首次与台积电在HBM制造环节合作。英伟达称NV… [原文链接] 上一篇:美光研发物理AI专用边缘推理存储器并计划用于LPDDR6 下一篇:新石器完成近4亿美元E轮融资,将加码端到端大模型数据训练闭环