阿斯麦公布Hyper NA EUV光刻机蓝图瞄准5nm单次曝光

阿斯麦与光学合作伙伴蔡司近日在《微纳米图案化、材料与计量期刊》发表同行评审论文，公布High NA EUV之后的下一代光刻机Hyper NA EUV。论文显示，Hyper NA将数… [原文链接]