据韩媒《ChosunBiz》报道，三星电子与SK海力士正竞相采购ASML的EUV光刻机，相关投资额均处于10万亿至20万亿韩元区间，约合491.3亿至982.6亿元人民币。在AI半导体需求持续扩张的背景下，两家韩国半导体企业均将EUV机台视为晶圆厂产能增长的关键要素。
SK海力士的动作已有明确时间表。该公司今年3月确认，将于2026年至2027年两年间向ASML采购总额11.95万亿韩元的EUV光刻机。其龙仁Y1晶圆厂预计于2027年2月启用首个无尘室，为后续设备导入和产能释放做准备。
三星电子则在更先进的High NA EUV方向上布局。公司承诺于2028年将High NA EUV用于DRAM量产，其平泽P5工厂预计2027年中导入相关设备。High NA EUV被视为下一代半导体制造的核心装备，三星的规划意味着其在DRAM制程竞赛中试图建立设备层面的先发优势。
两家企业同时扩大EUV采购，直接反映AI算力需求对存储芯片产能的拉动。作为本轮AI半导体浪潮中受益最明显的企业之一，三星电子与SK海力士均在提升晶圆厂产能，而EUV光刻机是先进制程产能扩张中不可替代的设备环节。
值得关注的是，半导体设备交付周期正普遍延长。ASML此前已被曝出需求排至2030年，其光刻机配件在韩国市场也面临约10％的涨价，三星与SK海力士已接受相关调整。在这一供需格局下，提前下单锁定设备交付窗口，成为两家企业确保产能按规划上线的必要举措。
从行业层面看，头部存储厂商围绕EUV设备的集中投资，将进一步强化ASML在先进光刻环节的议价能力，同时也意味着未来数年先进制程与DRAM产能的竞争，在很大程度上取决于设备获取的节奏与规模。
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